創浦（TRUMPF）在臺成立新電漿電源技術中心，打造亞洲服務樞紐深化在臺基礎設施布局，提升日本、南韓與東南亞服務量能，加速先進製程創新與永續發展

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創浦（TRUMPF）在臺成立新電漿電源技術中心，打造亞洲服務樞紐深化在臺基礎設施布局，提升日本、南韓與東南亞服務量能，加速先進製程創新與永續發展

文．圖／張國華 2025-11-28 14:22:39

全球頂尖半導體製造設備核心元件供應商創浦（TRUMPF），近日於桃園正式啟用全新區域性電漿電源技術中心。該技術中心旨在強化與客戶的緊密連結、縮短服務時間與降低碳足跡，並透過設備翻新以延長使用壽命，助力亞洲半導體產業的循環經濟。

本次全新啟用的技術中心配備先進基礎設施，專注於創浦電漿電源分析、維修與校正。創浦全球首席技術官 Dr. Berthold Schmidt 表示：「整體半導體產業面臨結構日益縮小、3D 拓樸（3D-Topography）愈趨複雜、新材料導入，以及高精密度與能源效率的巨大挑戰，創浦期望藉由技術優勢驅動產業的創新循環，助力發展應用於人工智慧、行動通訊與雲端運算等領域的次世代高效能晶片發展。為進一步體現創浦對臺灣及亞洲區域的長期承諾，創浦擴大在臺投資並以臺灣作為區域樞紐，設立服務範圍涵蓋日本、南韓與東南亞的全新技術中心。」

應用於先進半導體製造技術

創浦技術包含先進極紫外光（EUV）雷射系統、高功率雷射及先進電漿電源，在高效節能的微晶片製程中發揮關鍵作用，此類微晶片廣泛應用於人工智慧、智慧型手機與資料中心等領域。其中，電漿電源為實現先進製程節點（Next-Generation Nodes）的關鍵元件，透過精準控制產生電漿，進而於矽晶圓製造極細微結構，對多層晶片架構至關重要。

創浦的電漿電源技術以每秒十萬次頻率快速提升、降低極高電壓，產生短暫而強大的脈衝，使半導體製造商得以運用卓越的精度與極高的深寬比製造奈米等級 3D 結構，此關鍵技術更被視為驅動微電子學持續演進的動能。

強大的夥伴關係

創浦是廣受全球頂尖半導體設備製造商與晶片生產商信賴的夥伴。身為製造用雷射系統與 EUV 光刻技術的全球市場與技術領導者，創浦半導體產業扮演關鍵角色，團隊亦長期於臺灣晶圓廠提供安裝與服務支援。

創浦深耕臺灣逾 30 年，全臺設有五個據點。面對持續變動的產業局勢，創浦仍持續擴大在臺投資營運，以完整服務半導體相關系統與解決方案客戶，公司目前每年由半導體相關業務創造約十億歐元的營收。

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